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Glass Wafer Treatment

玻璃晶圓加工

提供 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓研磨拋光加工,TTV < 0.5μm,符合半導體 SEMI 標準,適用於 MEMS、感測器及先進封裝製程。

6吋玻璃晶圓
6" Glass Wafer
150mm Precision Glass Wafer
6" Glass Wafer
精度規格
直徑φ150 ±0.1mm
厚度0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm
TTV<0.5μm ★
Warp≤20μm
Bow≤15μm
Ra≤0.5nm
表面20-10 MIL-PRF-13830B
標準SEMI / 邊緣拋光
D263T BF33 JGS1 SK1300
8吋玻璃晶圓
8" Glass Wafer
200mm Precision Glass Wafer
8" Glass Wafer
精度規格
直徑φ200 ±0.1mm
厚度0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm
TTV<0.8μm
Warp≤30μm
Bow≤20μm
Ra≤0.5nm
表面20-10 MIL-PRF-13830B
標準SEMI / 邊緣拋光
D263T BF33 JGS1 SK1300
12吋玻璃晶圓
12" Glass Wafer
300mm Precision Glass Wafer
12" Glass Wafer
精度規格
直徑φ300 ±0.1mm
厚度0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm
TTV<0.8μm
Warp≤30μm
Bow≤20μm
Ra≤0.5nm
表面20-10 MIL-PRF-13830B
標準SEMI / 邊緣拋光
D263T BF33 JGS1 SK1300

TGV 玻璃基板

Through Glass Via(TGV)為半導體先進封裝關鍵材料,比矽基板介電損耗低 20%,廣泛應用於 5G/6G、AI 封裝及 MEMS 感測器。

TGV 玻璃基板技術示意
THROUGH GLASS VIA
下世代半導體封裝基板
介電常數 <6 | Via 孔徑 30~150μm | 6" / 8" / 12"
📷 photo-14 TGV橫幅 1200×500px
TGV 加工能力規格
晶圓尺寸6" / 8" / 12"
Via 孔徑30μm ~ 150μm(客製)
Via 形狀直孔 / 錐形 / 沙漏形
玻璃材質Borosilicate / Fused Silica
玻璃厚度100μm ~ 700μm
填充材料Cu(銅)
介電常數<6(低於矽基板 20%)
加工方式Femtosecond Laser + Wet Etch

應用場景

5G / 6G 射頻元件
低介電損耗,提升訊號完整性,適用 RF 模組封裝
AI 先進封裝 Chiplet / Interposer
2.5D/3D 玻璃 Interposer,支援 AI、CPU、GPU 高密度互連
MEMS 感測器封裝
晶圓級封裝(WLP),縮小元件體積,降低封裝成本
AR / VR 光學模組
玻璃優異光學透過性,適合光子整合與波導元件
醫療 Lab-on-Chip
微流道玻璃晶片,化學惰性、光學透明,適合快速診斷
$1.9B
2025 市場規模
34%+
年複合成長率
55%
亞太市場佔比
$24.7B
2034 預測規模

特殊光學玻璃加工

提供 Carrier Glass、壓電材料、Blue Glass 及多種光學玻璃的客製加工服務。

Carrier Glass Wafer
📷 photo-15 Carrier Glass 600×400px
🔬
Carrier Glass(NEW)
Glass Carrier Wafer for Thin Wafer Handling

支撐超薄晶圓(≤150μm)在薄化、鍍膜、蝕刻製程中防止破片,製程後可清洗重複使用,降低生產成本。

規格
供應尺寸6" / 8" / 12"
材質Fused Silica / BF33
厚度500μm ~ 775μm
TTV≤1μm(高端)/ ≤2μm
表面DSP 雙面拋光,Ra ≤0.5nm
耐溫Fused Silica >1000°C
壓電材料
📷 photo-16 壓電材料 600×400px
🔊
壓電材料
Piezoelectric Material

以合成石英為材料,提供平行板、平凸、雙凸等多種切割形式,適用於航太、通訊基地台及衛星等高可靠度應用。

規格
材質合成石英 (Synthetic Quartz)
尺寸φ4.5~φ14mm / 1.8×3~30×30mm
頻率5MHz (O3) ~ 120MHz (O5)
切割類型平行板 / 平凸 / 雙凸 / 雙旋轉切
Blue Glass IR Cut Filter
📷 photo-17 Blue Glass 600×400px
🔵
Blue Glass(IR Cut Filter)
IR Absorbing Filter / Blue Glass

阻隔 700nm 以上紅外光,確保 CMOS 感測器色彩還原正確,廣泛應用於手機相機模組、車載鏡頭及安防監控。

規格
材質SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
尺寸77×77mm(標準)
厚度0.11 / 0.145 / 0.21 / 0.3mm
截止波長>700nm IR 阻隔
其他光學玻璃
📷 photo-18 其他光學玻璃 600×400px
🔭
其他光學玻璃
Other Optical Glasses

提供多種品牌光學玻璃的精密切割、研磨與拋光加工,涵蓋相機鏡頭到醫療儀器的廣泛光學應用。

材質適用
SCHOTT B270 / D263T高透光光學
JGS1 (Fused Silica)UV 光學
OHARA 系列相機、醫療
CORNING Eagle XGTFT-LCD 基板
φ8~φ400mm 0.07~15.0mm

品質檢驗設備

配備專業光學量測儀器,確保每片玻璃基板符合半導體與光學產業最嚴格的品質標準。

🔭
TTV 總厚度變異量測
Zygo 干涉儀
量測項目Total Thickness Variation
量測精度0.1 μm
最大量測尺寸D300mm
📐
平坦度量測(Warp / Bow)
干涉儀
量測項目Warp / Bow
量測精度0.1 μm
最大量測尺寸D300mm
🔬
表面粗糙度量測
Veeco 白光干涉儀
量測項目Ra 表面粗糙度
量測精度0.01 μm
規格標準Ra ≤ 0.5nm
🔍
顆粒微塵檢測
光學粒子計數器
量測項目表面微塵粒徑
量測精度0.1 μm
適用Glass Wafer / Carrier Glass

光學鍍膜服務

提供多層薄膜光學鍍膜加工,涵蓋抗反射、濾光、導電鍍膜等功能性鍍膜,應用於半導體、光電與精密光學產業。

🔆
AR 抗反射鍍膜
Anti-Reflection Coating

多層薄膜設計,大幅降低玻璃表面反射率,提升光學透過效率,適用於相機鏡頭、醫療儀器及精密光學系統。

反射率 <0.5% UV / VIS / IR 寬波段可選
🛡️
AS / AG 功能鍍膜
Anti-Smudge / Anti-Glare Coating

AS 抗油污防指紋附著,AG 抗眩光散射環境光源,廣泛應用於觸控螢幕、手機面板及戶外顯示器。

抗指紋 抗眩光 耐磨耗
ITO 導電鍍膜
ITO / FTO Conductive Coating

提供 ITO(氧化銦錫)與 FTO(氟摻雜氧化錫)透明導電薄膜鍍膜服務,適用於觸控面板、太陽能電池及光電元件。

ITO / FTO 片電阻客製 高透光率
🔩
金屬濺鍍鍍膜
Metal Sputtering Coating

提供鋁、金、銀、鉻、鎳、銅、鈦等金屬薄膜濺鍍服務,應用於半導體封裝、光學元件與電子基板金屬化需求。

Al / Au / Ag Cr / Ni / Cu Ti / Mo / Sn
🌊
介電質多層膜
Dielectric Multilayer Coating

針對 HfO₂、Al₂O₃、Ta₂O₅、SiO₂、TiO₂ 等介電質材料,鍍製高精度濾光片與分光膜,適用於精密光學系統。

HR 高反射膜 分光膜 帶通濾光
♻️
SiC 零件加工
SiC Parts Machining

提供碳化矽(SiC)精密零件加工服務,應用於半導體製程腔體內的高純度耐熱耐腐蝕零組件製造需求。

高純度 SiC 耐高溫 耐腐蝕

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