玻璃晶圓加工
提供 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓研磨拋光加工,TTV < 0.5μm,符合半導體 SEMI 標準,適用於 MEMS、感測器及先進封裝製程。
| 精度規格 | |
|---|---|
| 直徑 | φ150 ±0.1mm |
| 厚度 | 0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm |
| TTV | <0.5μm ★ |
| Warp | ≤20μm |
| Bow | ≤15μm |
| Ra | ≤0.5nm |
| 表面 | 20-10 MIL-PRF-13830B |
| 標準 | SEMI / 邊緣拋光 |
| 精度規格 | |
|---|---|
| 直徑 | φ200 ±0.1mm |
| 厚度 | 0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm |
| TTV | <0.8μm |
| Warp | ≤30μm |
| Bow | ≤20μm |
| Ra | ≤0.5nm |
| 表面 | 20-10 MIL-PRF-13830B |
| 標準 | SEMI / 邊緣拋光 |
| 精度規格 | |
|---|---|
| 直徑 | φ300 ±0.1mm |
| 厚度 | 0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm |
| TTV | <0.8μm |
| Warp | ≤30μm |
| Bow | ≤20μm |
| Ra | ≤0.5nm |
| 表面 | 20-10 MIL-PRF-13830B |
| 標準 | SEMI / 邊緣拋光 |
玻璃晶圓加工
提供 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓研磨拋光加工,TTV < 0.5μm,符合半導體 SEMI 標準,適用於 MEMS、感測器及先進封裝製程。
| 精度規格 | |
|---|---|
| 直徑 | φ150 ±0.1mm |
| 厚度 | 0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm |
| TTV | <0.5μm ★ |
| Warp | ≤20μm |
| Bow | ≤15μm |
| Ra | ≤0.5nm |
| 表面 | 20-10 MIL-PRF-13830B |
| 標準 | SEMI / 邊緣拋光 |
| 精度規格 | |
|---|---|
| 直徑 | φ200 ±0.1mm |
| 厚度 | 0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm |
| TTV | <0.8μm |
| Warp | ≤30μm |
| Bow | ≤20μm |
| Ra | ≤0.5nm |
| 表面 | 20-10 MIL-PRF-13830B |
| 標準 | SEMI / 邊緣拋光 |
| 精度規格 | |
|---|---|
| 直徑 | φ300 ±0.1mm |
| 厚度 | 0.07 ~ 5.0mm ±0.005mm |
| TTV | <0.8μm |
| Warp | ≤30μm |
| Bow | ≤20μm |
| Ra | ≤0.5nm |
| 表面 | 20-10 MIL-PRF-13830B |
| 標準 | SEMI / 邊緣拋光 |
TGV 玻璃基板
Through Glass Via(TGV)為半導體先進封裝關鍵材料,比矽基板介電損耗低 20%,廣泛應用於 5G/6G、AI 封裝及 MEMS 感測器。
| TGV 加工能力規格 | |
|---|---|
| 晶圓尺寸 | 6" / 8" / 12" |
| Via 孔徑 | 30μm ~ 150μm(客製) |
| Via 形狀 | 直孔 / 錐形 / 沙漏形 |
| 玻璃材質 | Borosilicate / Fused Silica |
| 玻璃厚度 | 100μm ~ 700μm |
| 填充材料 | Cu(銅) |
| 介電常數 | <6(低於矽基板 20%) |
| 加工方式 | Femtosecond Laser + Wet Etch |
應用場景
TGV 玻璃基板
Through Glass Via(TGV)為半導體先進封裝關鍵材料,比矽基板介電損耗低 20%,廣泛應用於 5G/6G、AI 封裝及 MEMS 感測器。
| TGV 加工能力規格 | |
|---|---|
| 晶圓尺寸 | 6" / 8" / 12" |
| Via 孔徑 | 30μm ~ 150μm(客製) |
| Via 形狀 | 直孔 / 錐形 / 沙漏形 |
| 玻璃材質 | Borosilicate / Fused Silica |
| 玻璃厚度 | 100μm ~ 700μm |
| 填充材料 | Cu(銅) |
| 介電常數 | <6(低於矽基板 20%) |
| 加工方式 | Femtosecond Laser + Wet Etch |
應用場景
特殊光學玻璃加工
提供 Carrier Glass、壓電材料、Blue Glass 及多種光學玻璃的客製加工服務。
支撐超薄晶圓(≤150μm)在薄化、鍍膜、蝕刻製程中防止破片,製程後可清洗重複使用,降低生產成本。
| 規格 | |
|---|---|
| 供應尺寸 | 6" / 8" / 12" |
| 材質 | Fused Silica / BF33 |
| 厚度 | 500μm ~ 775μm |
| TTV | ≤1μm(高端)/ ≤2μm |
| 表面 | DSP 雙面拋光,Ra ≤0.5nm |
| 耐溫 | Fused Silica >1000°C |
以合成石英為材料,提供平行板、平凸、雙凸等多種切割形式,適用於航太、通訊基地台及衛星等高可靠度應用。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | 合成石英 (Synthetic Quartz) |
| 尺寸 | φ4.5~φ14mm / 1.8×3~30×30mm |
| 頻率 | 5MHz (O3) ~ 120MHz (O5) |
| 切割類型 | 平行板 / 平凸 / 雙凸 / 雙旋轉切 |
阻隔 700nm 以上紅外光,確保 CMOS 感測器色彩還原正確,廣泛應用於手機相機模組、車載鏡頭及安防監控。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | SCHOTT BG / CDGM QB / NEG |
| 尺寸 | 77×77mm(標準) |
| 厚度 | 0.11 / 0.145 / 0.21 / 0.3mm |
| 截止波長 | >700nm IR 阻隔 |
提供多種品牌光學玻璃的精密切割、研磨與拋光加工,涵蓋相機鏡頭到醫療儀器的廣泛光學應用。
| 材質 | 適用 |
|---|---|
| SCHOTT B270 / D263T | 高透光光學 |
| JGS1 (Fused Silica) | UV 光學 |
| OHARA 系列 | 相機、醫療 |
| CORNING Eagle XG | TFT-LCD 基板 |
特殊光學玻璃加工
提供 Carrier Glass、壓電材料、Blue Glass 及多種光學玻璃的客製加工服務。
支撐超薄晶圓(≤150μm)在薄化、鍍膜、蝕刻製程中防止破片,製程後可清洗重複使用,降低生產成本。
| 規格 | |
|---|---|
| 供應尺寸 | 6" / 8" / 12" |
| 材質 | Fused Silica / BF33 |
| 厚度 | 500μm ~ 775μm |
| TTV | ≤1μm(高端)/ ≤2μm |
| 表面 | DSP 雙面拋光,Ra ≤0.5nm |
| 耐溫 | Fused Silica >1000°C |
以合成石英為材料,提供平行板、平凸、雙凸等多種切割形式,適用於航太、通訊基地台及衛星等高可靠度應用。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | 合成石英 (Synthetic Quartz) |
| 尺寸 | φ4.5~φ14mm / 1.8×3~30×30mm |
| 頻率 | 5MHz (O3) ~ 120MHz (O5) |
| 切割類型 | 平行板 / 平凸 / 雙凸 / 雙旋轉切 |
阻隔 700nm 以上紅外光,確保 CMOS 感測器色彩還原正確,廣泛應用於手機相機模組、車載鏡頭及安防監控。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | SCHOTT BG / CDGM QB / NEG |
| 尺寸 | 77×77mm(標準) |
| 厚度 | 0.11 / 0.145 / 0.21 / 0.3mm |
| 截止波長 | >700nm IR 阻隔 |
提供多種品牌光學玻璃的精密切割、研磨與拋光加工,涵蓋相機鏡頭到醫療儀器的廣泛光學應用。
| 材質 | 適用 |
|---|---|
| SCHOTT B270 / D263T | 高透光光學 |
| JGS1 (Fused Silica) | UV 光學 |
| OHARA 系列 | 相機、醫療 |
| CORNING Eagle XG | TFT-LCD 基板 |
品質檢驗設備
配備專業光學量測儀器,確保每片玻璃基板符合半導體與光學產業最嚴格的品質標準。
品質檢驗設備
配備專業光學量測儀器,確保每片玻璃基板符合半導體與光學產業最嚴格的品質標準。
光學鍍膜服務
提供多層薄膜光學鍍膜加工,涵蓋抗反射、濾光、導電鍍膜等功能性鍍膜,應用於半導體、光電與精密光學產業。
多層薄膜設計,大幅降低玻璃表面反射率,提升光學透過效率,適用於相機鏡頭、醫療儀器及精密光學系統。
AS 抗油污防指紋附著,AG 抗眩光散射環境光源,廣泛應用於觸控螢幕、手機面板及戶外顯示器。
提供 ITO(氧化銦錫)與 FTO(氟摻雜氧化錫)透明導電薄膜鍍膜服務,適用於觸控面板、太陽能電池及光電元件。
提供鋁、金、銀、鉻、鎳、銅、鈦等金屬薄膜濺鍍服務,應用於半導體封裝、光學元件與電子基板金屬化需求。
針對 HfO₂、Al₂O₃、Ta₂O₅、SiO₂、TiO₂ 等介電質材料,鍍製高精度濾光片與分光膜,適用於精密光學系統。
提供碳化矽(SiC)精密零件加工服務,應用於半導體製程腔體內的高純度耐熱耐腐蝕零組件製造需求。
光學鍍膜服務
提供多層薄膜光學鍍膜加工,涵蓋抗反射、濾光、導電鍍膜等功能性鍍膜,應用於半導體、光電與精密光學產業。
多層薄膜設計,大幅降低玻璃表面反射率,提升光學透過效率,適用於相機鏡頭、醫療儀器及精密光學系統。
AS 抗油污防指紋附著,AG 抗眩光散射環境光源,廣泛應用於觸控螢幕、手機面板及戶外顯示器。
提供 ITO(氧化銦錫)與 FTO(氟摻雜氧化錫)透明導電薄膜鍍膜服務,適用於觸控面板、太陽能電池及光電元件。
提供鋁、金、銀、鉻、鎳、銅、鈦等金屬薄膜濺鍍服務,應用於半導體封裝、光學元件與電子基板金屬化需求。
針對 HfO₂、Al₂O₃、Ta₂O₅、SiO₂、TiO₂ 等介電質材料,鍍製高精度濾光片與分光膜,適用於精密光學系統。
提供碳化矽(SiC)精密零件加工服務,應用於半導體製程腔體內的高純度耐熱耐腐蝕零組件製造需求。