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Glass Wafer & Through Glass Via

晶圓玻璃・TGV 基板
半導體先進封裝核心材料

從精密玻璃晶圓加工到 Through Glass Via 基板,符合 SEMI 半導體標準,服務 5G/6G 射頻模組、AI 先進封裝(CoWoS/HBM)、MEMS 感測器等關鍵應用,並提供光學鍍膜一站式加工服務。

6"~12"
精密玻璃晶圓
三種規格
<0.5μm
TTV 精度(6吋)
SEMI 標準
30~150μm
TGV Via 孔徑
可依需求客製
<6
介電常數
低損耗玻璃基板
精密玻璃晶圓 / TGV 基板

四大核心技術服務

從玻璃基板加工到功能性鍍膜,提供半導體與光電產業完整解決方案。

玻璃晶圓加工

供應 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓,TTV < 0.5μm(6吋),表面粗糙度 Ra < 0.3nm,全程符合 SEMI 半導體製造標準。

TGV 玻璃基板

Through Glass Via 技術,Via 孔徑 30~150μm,介電常數 < 6,適用 5G/6G 射頻前端、AI CoWoS / HBM 封裝與 MEMS 感測器。

特殊光學玻璃

Carrier Glass 超薄支撐基板、壓電合成石英、Blue Glass 紅外截止濾光片,多種特殊光學玻璃材料供應。

光學鍍膜服務

抗反射(AR)、ITO/FTO 透明導電膜、金屬濺鍍(Cr/Au/Al)、介電質多層膜,功能性鍍膜一站式完成。

TGV 玻璃基板
下世代封裝互連材料

Through Glass Via(TGV)以低損耗玻璃取代傳統矽基板,提供更優異的電氣絕緣性、更低的介電損耗與更高的整合密度。隨著 5G 毫米波、AI 高效能運算封裝與 MEMS 感測器需求爆發,TGV 正成為先進封裝不可或缺的核心材料。

  • Via 孔徑30 ~ 150 μm
  • 孔間距(Pitch)50 ~ 500 μm
  • 基板厚度0.1 ~ 0.7 mm
  • 介電常數(1GHz)< 6
  • 熱膨脹係數(CTE)3 ~ 7 ppm/°C
  • 主要應用5G/6G・AI 封裝・MEMS
精密玻璃晶圓 / TGV 基板

完整規格對照表

涵蓋玻璃晶圓加工與 TGV 基板完整技術規格,可依需求客製化。

規格項目 6" 玻璃晶圓 8" 玻璃晶圓 12" 玻璃晶圓
晶圓直徑 150 mm 200 mm 300 mm
TTV 精度 < 0.5 μm < 0.8 μm < 0.8 μm
可加工厚度 0.1 ~ 2.0 mm
表面粗糙度 Ra < 0.3 nm(拋光面)
可用材質 無鹼硼矽玻璃 / 石英玻璃 / BK7 光學玻璃 / 特殊光學玻璃
符合標準 SEMI M1・M20・M78
規格項目 TGV 玻璃基板 備註
Via 孔徑 30 ~ 150 μm 可依應用需求客製
孔間距(Pitch) 50 ~ 500 μm 高密度排列可達更小間距
基板厚度 0.1 ~ 0.7 mm 超薄可達 100 μm
介電常數(1 GHz) < 6 低損耗,優於有機基板
熱膨脹係數(CTE) 3 ~ 7 ppm/°C 與矽基板 CTE 接近,降低翹曲
翹曲控制 超低翹曲設計 適合後段薄化製程
主要應用 5G RF 模組・AI HBM 封裝・MEMS

兩種合作模式

依據您的應用需求,選擇最適合的合作方式,從樣品開發到批量供應均可承接。

★ 主力方案

TGV 玻璃基板
客製化開發

針對 5G/6G 射頻模組、AI CoWoS/HBM 封裝、MEMS 感測器等高端應用,提供 TGV 基板設計開發與批量供應。

  • Via 孔徑 30~150μm 全客製設計
  • 介電常數 < 6 低損耗規格
  • 超低翹曲,可薄化至 100μm
  • 適配 AI CoWoS / HBM 封裝需求
  • 符合 SEMI 標準,提供完整規格文件
代工服務

精密玻璃晶圓
加工代工

提供 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓一站式加工,含切割、研磨、拋光至功能性鍍膜,滿足半導體及光電完整製程需求。

  • TTV < 0.5μm(6吋)超高精密度
  • 表面粗糙度 Ra < 0.3 nm
  • 多種玻璃材質:無鹼、石英、BK7
  • 整合光學鍍膜(AR/ITO/金屬濺鍍)
  • 小量樣品至批量生產均可承接

廣泛應用場景

從半導體先進封裝到精密光學儀器,服務各類高端科技製造需求。

5G AI 先進封裝應用場景
5G/6G・AI 先進封裝

TGV 基板用於 5G 毫米波射頻前端模組(RFFE)、AI 加速器的 CoWoS 封裝與高頻寬記憶體(HBM),滿足高密度互連與低損耗傳輸需求,是 AI 算力基礎設施的關鍵材料。

MEMS 精密光學醫療航太應用場景
MEMS・精密光學・醫療航太

精密玻璃晶圓廣泛應用於 MEMS 壓力感測器、陀螺儀、相機鏡頭光學組件、醫療診斷儀器及航太工程感測系統,在高溫、高壓、強震動等嚴苛環境中仍保持高可靠度。

特殊光學玻璃加工

提供 Carrier Glass、壓電材料、Blue Glass 及多種光學玻璃的客製加工服務。

Carrier Glass Wafer
📷 Carrier Glass
🔬
Carrier Glass(NEW)
Glass Carrier Wafer for Thin Wafer Handling

支撐超薄晶圓(≤150μm)在薄化、鍍膜、蝕刻製程中防止破片,製程後可清洗重複使用,降低生產成本。

規格
供應尺寸6" / 8" / 12"
材質Fused Silica / BF33
厚度500μm ~ 775μm
TTV≤1μm(高端)/ ≤2μm
表面DSP 雙面拋光,Ra ≤0.5nm
耐溫Fused Silica >1000°C
壓電材料
📷 壓電材料
🔊
壓電材料
Piezoelectric Material

以合成石英為材料,提供平行板、平凸、雙凸等多種切割形式,適用於航太、通訊基地台及衛星等高可靠度應用。

規格
材質合成石英 (Synthetic Quartz)
尺寸φ4.5~φ14mm / 1.8×3~30×30mm
頻率5MHz (O3) ~ 120MHz (O5)
切割類型平行板 / 平凸 / 雙凸 / 雙旋轉切
Blue Glass IR Cut Filter
📷 Blue Glass
🔵
Blue Glass(IR Cut Filter)
IR Absorbing Filter / Blue Glass

阻隔 700nm 以上紅外光,確保 CMOS 感測器色彩還原正確,廣泛應用於手機相機模組、車載鏡頭及安防監控。

規格
材質SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
尺寸77×77mm(標準)
厚度0.11 / 0.145 / 0.21 / 0.3mm
截止波長>700nm IR 阻隔
其他光學玻璃
📷 其他光學玻璃
🔭
其他光學玻璃
Other Optical Glasses

提供多種品牌光學玻璃的精密切割、研磨與拋光加工,涵蓋相機鏡頭到醫療儀器的廣泛光學應用。

材質適用
SCHOTT B270 / D263T高透光光學
JGS1 (Fused Silica)UV 光學
OHARA 系列相機、醫療
CORNING Eagle XGTFT-LCD 基板
φ8~φ400mm 0.07~15.0mm
Quality Assurance

品質檢驗設備

配備專業光學量測儀器,確保每片玻璃基板符合半導體與光學產業最嚴格的品質標準。

🔭
TTV 總厚度變異量測
Zygo 干涉儀
量測項目Total Thickness Variation
量測精度0.1 μm
最大量測尺寸D300mm
TTV 總厚度變異量測設備
📐
平坦度量測(Warp / Bow)
干涉儀
量測項目Warp / Bow
量測精度0.1 μm
最大量測尺寸D300mm
平坦度量測設備
🔬
表面粗糙度量測
Veeco 白光干涉儀
量測項目Ra 表面粗糙度
量測精度0.01 μm
規格標準Ra ≤ 0.5nm
表面粗糙度量測設備
🔍
顆粒微塵檢測
光學粒子計數器
量測項目表面微塵粒徑
量測精度0.1 μm
適用Glass Wafer / Carrier Glass
顆粒微塵檢測設備

光學鍍膜服務

依功能需求提供多種鍍膜工藝,全面提升玻璃基板的光學與電氣性能。

光學

抗反射鍍膜(AR Coating)

降低玻璃表面反射率至 < 0.5%,大幅提升透光率,適用於相機鏡頭、感測窗及顯示面板保護玻璃。

導電

ITO / FTO 透明導電鍍膜

透明導電氧化物薄膜,片電阻 10~200 Ω/□ 可調,適用於觸控面板、太陽能電池及電熱除霧玻璃。

金屬

金屬濺鍍(Cr / Au / Al)

高黏附性金屬薄膜,可製作電極層、遮罩層或散熱層,廣泛應用於 MEMS 微製程及半導體晶圓製程。

多層膜

介電質多層膜

高/低折射率材料交替堆疊,可製作帶通濾波片、高反射鏡、分束鏡等精密光學元件,波長範圍可客製。

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