晶圓玻璃・TGV 基板
半導體先進封裝核心材料
從精密玻璃晶圓加工到 Through Glass Via 基板,符合 SEMI 半導體標準,服務 5G/6G 射頻模組、AI 先進封裝(CoWoS/HBM)、MEMS 感測器等關鍵應用,並提供光學鍍膜一站式加工服務。
三種規格
SEMI 標準
可依需求客製
低損耗玻璃基板
晶圓玻璃・TGV 基板
半導體先進封裝核心材料
從精密玻璃晶圓加工到 Through Glass Via 基板,符合 SEMI 半導體標準,服務 5G/6G 射頻模組、AI 先進封裝(CoWoS/HBM)、MEMS 感測器等關鍵應用,並提供光學鍍膜一站式加工服務。
三種規格
SEMI 標準
可依需求客製
低損耗玻璃基板
四大核心技術服務
從玻璃基板加工到功能性鍍膜,提供半導體與光電產業完整解決方案。
玻璃晶圓加工
供應 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓,TTV < 0.5μm(6吋),表面粗糙度 Ra < 0.3nm,全程符合 SEMI 半導體製造標準。
TGV 玻璃基板
Through Glass Via 技術,Via 孔徑 30~150μm,介電常數 < 6,適用 5G/6G 射頻前端、AI CoWoS / HBM 封裝與 MEMS 感測器。
特殊光學玻璃
Carrier Glass 超薄支撐基板、壓電合成石英、Blue Glass 紅外截止濾光片,多種特殊光學玻璃材料供應。
光學鍍膜服務
抗反射(AR)、ITO/FTO 透明導電膜、金屬濺鍍(Cr/Au/Al)、介電質多層膜,功能性鍍膜一站式完成。
四大核心技術服務
從玻璃基板加工到功能性鍍膜,提供半導體與光電產業完整解決方案。
玻璃晶圓加工
供應 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓,TTV < 0.5μm(6吋),表面粗糙度 Ra < 0.3nm,全程符合 SEMI 半導體製造標準。
TGV 玻璃基板
Through Glass Via 技術,Via 孔徑 30~150μm,介電常數 < 6,適用 5G/6G 射頻前端、AI CoWoS / HBM 封裝與 MEMS 感測器。
特殊光學玻璃
Carrier Glass 超薄支撐基板、壓電合成石英、Blue Glass 紅外截止濾光片,多種特殊光學玻璃材料供應。
光學鍍膜服務
抗反射(AR)、ITO/FTO 透明導電膜、金屬濺鍍(Cr/Au/Al)、介電質多層膜,功能性鍍膜一站式完成。
TGV 玻璃基板
下世代封裝互連材料
Through Glass Via(TGV)以低損耗玻璃取代傳統矽基板,提供更優異的電氣絕緣性、更低的介電損耗與更高的整合密度。隨著 5G 毫米波、AI 高效能運算封裝與 MEMS 感測器需求爆發,TGV 正成為先進封裝不可或缺的核心材料。
- Via 孔徑30 ~ 150 μm
- 孔間距(Pitch)50 ~ 500 μm
- 基板厚度0.1 ~ 0.7 mm
- 介電常數(1GHz)< 6
- 熱膨脹係數(CTE)3 ~ 7 ppm/°C
- 主要應用5G/6G・AI 封裝・MEMS
TGV 玻璃基板
下世代封裝互連材料
Through Glass Via(TGV)以低損耗玻璃取代傳統矽基板,提供更優異的電氣絕緣性、更低的介電損耗與更高的整合密度。隨著 5G 毫米波、AI 高效能運算封裝與 MEMS 感測器需求爆發,TGV 正成為先進封裝不可或缺的核心材料。
- Via 孔徑30 ~ 150 μm
- 孔間距(Pitch)50 ~ 500 μm
- 基板厚度0.1 ~ 0.7 mm
- 介電常數(1GHz)< 6
- 熱膨脹係數(CTE)3 ~ 7 ppm/°C
- 主要應用5G/6G・AI 封裝・MEMS
完整規格對照表
涵蓋玻璃晶圓加工與 TGV 基板完整技術規格,可依需求客製化。
| 規格項目 | 6" 玻璃晶圓 | 8" 玻璃晶圓 | 12" 玻璃晶圓 |
|---|---|---|---|
| 晶圓直徑 | 150 mm | 200 mm | 300 mm |
| TTV 精度 | < 0.5 μm | < 0.8 μm | < 0.8 μm |
| 可加工厚度 | 0.1 ~ 2.0 mm | ||
| 表面粗糙度 Ra | < 0.3 nm(拋光面) | ||
| 可用材質 | 無鹼硼矽玻璃 / 石英玻璃 / BK7 光學玻璃 / 特殊光學玻璃 | ||
| 符合標準 | SEMI M1・M20・M78 | ||
| 規格項目 | TGV 玻璃基板 | 備註 |
|---|---|---|
| Via 孔徑 | 30 ~ 150 μm | 可依應用需求客製 |
| 孔間距(Pitch) | 50 ~ 500 μm | 高密度排列可達更小間距 |
| 基板厚度 | 0.1 ~ 0.7 mm | 超薄可達 100 μm |
| 介電常數(1 GHz) | < 6 | 低損耗,優於有機基板 |
| 熱膨脹係數(CTE) | 3 ~ 7 ppm/°C | 與矽基板 CTE 接近,降低翹曲 |
| 翹曲控制 | 超低翹曲設計 | 適合後段薄化製程 |
| 主要應用 | 5G RF 模組・AI HBM 封裝・MEMS | — |
完整規格對照表
涵蓋玻璃晶圓加工與 TGV 基板完整技術規格,可依需求客製化。
| 規格項目 | 6" 玻璃晶圓 | 8" 玻璃晶圓 | 12" 玻璃晶圓 |
|---|---|---|---|
| 晶圓直徑 | 150 mm | 200 mm | 300 mm |
| TTV 精度 | < 0.5 μm | < 0.8 μm | < 0.8 μm |
| 可加工厚度 | 0.1 ~ 2.0 mm | ||
| 表面粗糙度 Ra | < 0.3 nm(拋光面) | ||
| 可用材質 | 無鹼硼矽玻璃 / 石英玻璃 / BK7 光學玻璃 / 特殊光學玻璃 | ||
| 符合標準 | SEMI M1・M20・M78 | ||
| 規格項目 | TGV 玻璃基板 | 備註 |
|---|---|---|
| Via 孔徑 | 30 ~ 150 μm | 可依應用需求客製 |
| 孔間距(Pitch) | 50 ~ 500 μm | 高密度排列可達更小間距 |
| 基板厚度 | 0.1 ~ 0.7 mm | 超薄可達 100 μm |
| 介電常數(1 GHz) | < 6 | 低損耗,優於有機基板 |
| 熱膨脹係數(CTE) | 3 ~ 7 ppm/°C | 與矽基板 CTE 接近,降低翹曲 |
| 翹曲控制 | 超低翹曲設計 | 適合後段薄化製程 |
| 主要應用 | 5G RF 模組・AI HBM 封裝・MEMS | — |
兩種合作模式
依據您的應用需求,選擇最適合的合作方式,從樣品開發到批量供應均可承接。
TGV 玻璃基板
客製化開發
針對 5G/6G 射頻模組、AI CoWoS/HBM 封裝、MEMS 感測器等高端應用,提供 TGV 基板設計開發與批量供應。
- Via 孔徑 30~150μm 全客製設計
- 介電常數 < 6 低損耗規格
- 超低翹曲,可薄化至 100μm
- 適配 AI CoWoS / HBM 封裝需求
- 符合 SEMI 標準,提供完整規格文件
精密玻璃晶圓
加工代工
提供 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓一站式加工,含切割、研磨、拋光至功能性鍍膜,滿足半導體及光電完整製程需求。
- TTV < 0.5μm(6吋)超高精密度
- 表面粗糙度 Ra < 0.3 nm
- 多種玻璃材質:無鹼、石英、BK7
- 整合光學鍍膜(AR/ITO/金屬濺鍍)
- 小量樣品至批量生產均可承接
兩種合作模式
依據您的應用需求,選擇最適合的合作方式,從樣品開發到批量供應均可承接。
TGV 玻璃基板
客製化開發
針對 5G/6G 射頻模組、AI CoWoS/HBM 封裝、MEMS 感測器等高端應用,提供 TGV 基板設計開發與批量供應。
- Via 孔徑 30~150μm 全客製設計
- 介電常數 < 6 低損耗規格
- 超低翹曲,可薄化至 100μm
- 適配 AI CoWoS / HBM 封裝需求
- 符合 SEMI 標準,提供完整規格文件
精密玻璃晶圓
加工代工
提供 6"、8"、12" 精密玻璃晶圓一站式加工,含切割、研磨、拋光至功能性鍍膜,滿足半導體及光電完整製程需求。
- TTV < 0.5μm(6吋)超高精密度
- 表面粗糙度 Ra < 0.3 nm
- 多種玻璃材質:無鹼、石英、BK7
- 整合光學鍍膜(AR/ITO/金屬濺鍍)
- 小量樣品至批量生產均可承接
廣泛應用場景
從半導體先進封裝到精密光學儀器,服務各類高端科技製造需求。
TGV 基板用於 5G 毫米波射頻前端模組(RFFE)、AI 加速器的 CoWoS 封裝與高頻寬記憶體(HBM),滿足高密度互連與低損耗傳輸需求,是 AI 算力基礎設施的關鍵材料。
精密玻璃晶圓廣泛應用於 MEMS 壓力感測器、陀螺儀、相機鏡頭光學組件、醫療診斷儀器及航太工程感測系統,在高溫、高壓、強震動等嚴苛環境中仍保持高可靠度。
廣泛應用場景
從半導體先進封裝到精密光學儀器,服務各類高端科技製造需求。
TGV 基板用於 5G 毫米波射頻前端模組(RFFE)、AI 加速器的 CoWoS 封裝與高頻寬記憶體(HBM),滿足高密度互連與低損耗傳輸需求,是 AI 算力基礎設施的關鍵材料。
精密玻璃晶圓廣泛應用於 MEMS 壓力感測器、陀螺儀、相機鏡頭光學組件、醫療診斷儀器及航太工程感測系統,在高溫、高壓、強震動等嚴苛環境中仍保持高可靠度。
特殊光學玻璃加工
提供 Carrier Glass、壓電材料、Blue Glass 及多種光學玻璃的客製加工服務。
支撐超薄晶圓(≤150μm)在薄化、鍍膜、蝕刻製程中防止破片,製程後可清洗重複使用,降低生產成本。
| 規格 | |
|---|---|
| 供應尺寸 | 6" / 8" / 12" |
| 材質 | Fused Silica / BF33 |
| 厚度 | 500μm ~ 775μm |
| TTV | ≤1μm(高端)/ ≤2μm |
| 表面 | DSP 雙面拋光,Ra ≤0.5nm |
| 耐溫 | Fused Silica >1000°C |
以合成石英為材料,提供平行板、平凸、雙凸等多種切割形式,適用於航太、通訊基地台及衛星等高可靠度應用。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | 合成石英 (Synthetic Quartz) |
| 尺寸 | φ4.5~φ14mm / 1.8×3~30×30mm |
| 頻率 | 5MHz (O3) ~ 120MHz (O5) |
| 切割類型 | 平行板 / 平凸 / 雙凸 / 雙旋轉切 |
阻隔 700nm 以上紅外光,確保 CMOS 感測器色彩還原正確,廣泛應用於手機相機模組、車載鏡頭及安防監控。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | SCHOTT BG / CDGM QB / NEG |
| 尺寸 | 77×77mm(標準) |
| 厚度 | 0.11 / 0.145 / 0.21 / 0.3mm |
| 截止波長 | >700nm IR 阻隔 |
提供多種品牌光學玻璃的精密切割、研磨與拋光加工,涵蓋相機鏡頭到醫療儀器的廣泛光學應用。
| 材質 | 適用 |
|---|---|
| SCHOTT B270 / D263T | 高透光光學 |
| JGS1 (Fused Silica) | UV 光學 |
| OHARA 系列 | 相機、醫療 |
| CORNING Eagle XG | TFT-LCD 基板 |
特殊光學玻璃加工
提供 Carrier Glass、壓電材料、Blue Glass 及多種光學玻璃的客製加工服務。
支撐超薄晶圓(≤150μm)在薄化、鍍膜、蝕刻製程中防止破片,製程後可清洗重複使用,降低生產成本。
| 規格 | |
|---|---|
| 供應尺寸 | 6" / 8" / 12" |
| 材質 | Fused Silica / BF33 |
| 厚度 | 500μm ~ 775μm |
| TTV | ≤1μm(高端)/ ≤2μm |
| 表面 | DSP 雙面拋光,Ra ≤0.5nm |
| 耐溫 | Fused Silica >1000°C |
以合成石英為材料,提供平行板、平凸、雙凸等多種切割形式,適用於航太、通訊基地台及衛星等高可靠度應用。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | 合成石英 (Synthetic Quartz) |
| 尺寸 | φ4.5~φ14mm / 1.8×3~30×30mm |
| 頻率 | 5MHz (O3) ~ 120MHz (O5) |
| 切割類型 | 平行板 / 平凸 / 雙凸 / 雙旋轉切 |
阻隔 700nm 以上紅外光,確保 CMOS 感測器色彩還原正確,廣泛應用於手機相機模組、車載鏡頭及安防監控。
| 規格 | |
|---|---|
| 材質 | SCHOTT BG / CDGM QB / NEG |
| 尺寸 | 77×77mm(標準) |
| 厚度 | 0.11 / 0.145 / 0.21 / 0.3mm |
| 截止波長 | >700nm IR 阻隔 |
提供多種品牌光學玻璃的精密切割、研磨與拋光加工,涵蓋相機鏡頭到醫療儀器的廣泛光學應用。
| 材質 | 適用 |
|---|---|
| SCHOTT B270 / D263T | 高透光光學 |
| JGS1 (Fused Silica) | UV 光學 |
| OHARA 系列 | 相機、醫療 |
| CORNING Eagle XG | TFT-LCD 基板 |
品質檢驗設備
配備專業光學量測儀器,確保每片玻璃基板符合半導體與光學產業最嚴格的品質標準。
品質檢驗設備
配備專業光學量測儀器,確保每片玻璃基板符合半導體與光學產業最嚴格的品質標準。
光學鍍膜服務
依功能需求提供多種鍍膜工藝,全面提升玻璃基板的光學與電氣性能。
抗反射鍍膜(AR Coating)
降低玻璃表面反射率至 < 0.5%,大幅提升透光率,適用於相機鏡頭、感測窗及顯示面板保護玻璃。
ITO / FTO 透明導電鍍膜
透明導電氧化物薄膜,片電阻 10~200 Ω/□ 可調,適用於觸控面板、太陽能電池及電熱除霧玻璃。
金屬濺鍍(Cr / Au / Al)
高黏附性金屬薄膜,可製作電極層、遮罩層或散熱層,廣泛應用於 MEMS 微製程及半導體晶圓製程。
介電質多層膜
高/低折射率材料交替堆疊,可製作帶通濾波片、高反射鏡、分束鏡等精密光學元件,波長範圍可客製。
光學鍍膜服務
依功能需求提供多種鍍膜工藝,全面提升玻璃基板的光學與電氣性能。
抗反射鍍膜(AR Coating)
降低玻璃表面反射率至 < 0.5%,大幅提升透光率,適用於相機鏡頭、感測窗及顯示面板保護玻璃。
ITO / FTO 透明導電鍍膜
透明導電氧化物薄膜,片電阻 10~200 Ω/□ 可調,適用於觸控面板、太陽能電池及電熱除霧玻璃。
金屬濺鍍(Cr / Au / Al)
高黏附性金屬薄膜,可製作電極層、遮罩層或散熱層,廣泛應用於 MEMS 微製程及半導體晶圓製程。
介電質多層膜
高/低折射率材料交替堆疊,可製作帶通濾波片、高反射鏡、分束鏡等精密光學元件,波長範圍可客製。